溶液溫度濃度對微弧氧化膜層性能的影響
1、微弧氧化溶液溫度低時,氧化膜的生長速度較快,微弧氧化技術要求,膜致密,性能較佳。但溫度過低時,氧化作用較弱,膜厚和硬度值都較低。
2、微弧氧化溶液溫度過高時,堿性電解液對氧化膜的溶解作用增強,致使膜厚與硬度顯著下降,且溶液易飛濺,膜層也易被局部燒焦或擊穿。所謂以微弧氧化溶液的溫度一定要控制好,鈦合金微弧氧化技術,這樣才可以提高微弧氧化膜層的性能。
3、溶液酸堿度:酸堿度過大或過小,溶解速度都加快,微弧氧化技術,氧化膜生長速度減慢,所以一般選擇弱堿性溶液。
4、溶液濃度:溶液濃度對氧化膜的成膜速率、表面顏色和粗糙度都有影響。微弧氧化技術、微弧氧化生產線、微弧氧化電源
微弧氧化技術都可以處理哪些材料?
現(xiàn)階段,微弧氧化技術處理的材料為鎂、鋁、鈦及其合金,另外鉭、鈮、鋯、鈹?shù)炔牧媳砻嬉部梢灾苯舆M行微弧氧化。我公司能夠在以上金屬表面進行相關性能的微弧氧化膜層制備。此外,其它一些材料如不銹鋼也有文獻報道可進行微弧氧化處理,但是需行表面處理,如在其表面進行熱浸鍍鋁然后進行微弧氧化。對于這類材料,前期處理極為關鍵,將直接關系后期膜層的性能。
微弧氧化膜具有特殊的多孔質結構,使得它在金屬材料功能化方面有著巨大的應用潛力,如在微弧氧化膜的細孔中填充潤滑性物質,微弧氧化技術服務,可以作為性能優(yōu)良的減摩抗磨材料。影響微弧氧化膜生長和性能的因素很多,有待于系統(tǒng)而深入地研究,以弄清楚各因素對膜性能的影響規(guī)律,使得不同性能要求下的微弧氧化工藝更具有可重現(xiàn)性?!∥⒒⊙趸娫?、微弧氧化技術、微弧氧化生產線
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